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    院校用小型真空電弧爐

    院校用小型真空電弧爐

    所屬分類:實(shí)驗(yàn)真空熔煉爐

    產(chǎn)品型號(hào):KDH-300

    更新時(shí)間:2023-11-09

    描述:院校用小型真空電弧爐采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛;水冷銅電極可360度移動(dòng),操作靈活,同時(shí)水冷坩堝小巧可更換,可定制。

    詳細(xì)信息

    院校用小型真空電弧爐特點(diǎn):

    1·爐體全不銹鋼設(shè)計(jì),外形美觀大方,不生銹。

    2·采用立式圓筒形真空室

    3 .配置大口徑觀察窗,可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)的冶煉情況

    3·冶煉溫度高,溫度可3500度以上,

    4·采用電弧熔煉的熔煉電源。

    5·采用工作臺(tái)式設(shè)計(jì),操作方便

    6 配有操作模擬屏,控制數(shù)據(jù)直觀顯示,操作直觀簡潔

    7.高真空設(shè)計(jì),真空度可達(dá)5×10E-4Pa及以上

    8.自帶冷水機(jī),到貨即可使用。

    9.采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

    10.水冷銅電極可360度移動(dòng),操作靈活,同時(shí)水冷坩堝小巧可更換,可定制。

    11.帶翻料裝置,克服物料單面熔化不勻的局面

    12.帶真空吸鑄鑄造工位

    13·規(guī)格多樣可非標(biāo)定制:

    14·樣品可以是粉末、絲狀、屑狀及鉆屑、粒狀、條狀、環(huán)狀、泥沙狀等

    15·設(shè)備高效性:大部分金屬材料加熱重熔時(shí)間為一分鐘或更短

    院校用小型真空電弧爐廣泛應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬、金屬合金等,適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。


    ※技術(shù)參數(shù)

    1.設(shè)備總功率:10Kw;

    2.電源電壓:單相220V,50Hz

    3.真空度:優(yōu)于5×10E-4Pa

    4.設(shè)備容量:20g單工位

    5.熔煉溫度:3500

    6.真空泵組:飛越機(jī)械泵 +管路閥門

    7.熔煉工位:5~7個(gè)標(biāo)準(zhǔn)¢20*8 冶煉工位,冶煉工位可根據(jù)客戶要求配置

    8.可選配吸鑄功能

    9:真空腔尺寸:¢200×250

    10:控制方式:操作模擬屏

     

    ※產(chǎn)品規(guī)格

    1. 外形尺寸:450*500*550m(L*W*H)

    2. 設(shè)備總重量:80Kg

     

    ※標(biāo)準(zhǔn)配件

    1.高真空腔體 1套

    2.電弧熔煉電源 1套

    3.翻料機(jī)構(gòu)  1套

    4.大尺寸觀察窗  1套

    5.可移動(dòng)旋轉(zhuǎn)電極 1件

    6.水冷銅坩堝  1套

    7·循環(huán)冷水機(jī) 1套

    8.真空系統(tǒng) 1套

    9.產(chǎn)品說明書合格證 1份

    ※可選配件

    1.吸鑄銅坩堝

    2.吸鑄模具




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